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工业水处理设备

单晶硅、微电子产品生产用高纯水设备

文字:[大][中][小] 2016-1-26    浏览次数:760    

单晶硅等硅材料、集成电路芯片及封装、液晶显示、光电器件、各种电子器件、微电子工业、需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。目前对其清洗和生产的水质精度要求都比较高,电阻度一般要求大于10兆欧/厘米;

其主要工艺如下:

1、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点

2、采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备进行搭配的的方式,这是一种制取超纯水的新工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯水制备工艺,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点

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